제품 소개
스핀 코팅용 유기재료로서 리소그래피 공정에서 하부층의 반사광을 차단하여 패턴의 손상을 줄이는 반도체 공정 재료
주요 용도
- ArF 미세 패터닝 형성을 위한 반사방지막 재료로 레지스트 하부층에 적용되는 특정 굴절률과 특정 흡광계수를 갖는 소재
- 높은 패턴 해상력으로 CD margin 향상
주요 특징
- 적용 레지스트에 적합한 특정 굴절률과 흡광계수
- 우수한 Etch rate
- Standing wave 제어
- 패턴 공정 마진 향상
- 레지스트와의 intermixing 없음
- 넓은 레지스트 호환성